One aspect of the present invention comprises a nail polish removing composition that is essentially free of acetone and ethyl acetate, and is essentially free of odor. The composition includes at least one triester of glycerol and C2-C5 carboxylic acid, at least one C3-C5 glycol, at least one C4-C6 cyclic carbonate, and, optionally, at least one colorant. Another aspect of the present invention is a method of removing nail polish, comprising providing the nail polish removing composition； immersing an absorbent material in the composition, wherein the absorbent material absorbs the composition； contacting the absorbent material to nail polish for a time sufficient to plasticize the nail polish film； and removing the plasticized nail polish film by mechanically rubbing with the absorbent material, wherein the composition comprises one or more phases.La présente invention concerne, sous l'un de ses aspects, une composition de dissolvant pour vernis à ongles qui est essentiellement exempte d'acétone et d'acétate d'éthyle et est essentiellement exempte d'odeur. La composition comprend au moins un triester du glycérol et d'un acide carboxylique en C2-C5, au moins un glycol en C3-C5, au moins un carbonate cyclique en C4-C6 et, éventuellement, au moins un colorant. Sous un autre de ses aspects, la présente invention concerne un procédé de dissolution de vernis à ongles, comprenant : se procurer la composition de dissolvant pour vernis à ongles ； immerger une matière absorbante dans la composition, la matière absorbante absorbant la composition ； mettre en contact la matière absorbante sur le vernis à ongles pendant un laps de temps suffisant pour plastifier le film de vernis à ongles ； et retirer le film de vernis à ongles plastifié par frottement mécanique avec la matière absorbante, la composition comprenant une ou plusieurs phases.
