您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

PROCESS FOR PRODUCTION OF PRECURSOR COMPOUND FOR RADIOACTIVE HALOGEN-LABELED ORGANIC COMPOUND
专利权人:
发明人:
토야마 마사히토,하야시 아키오
申请号:
KR1020097010950
公开号:
KR1014087270000B1
申请日:
2007.12.17
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
A process for producing a labeled precursor which is useful for production of a radioactive fluorine-labeled amino acid compound is provided. In the reaction step for introducing a leaving group to a mixture of syn-form and anti-form of FACBC, a base is allowed to present in the reaction system to produce a syn-leaving group adduct which is unreactive with the base and is highly stable and an anti-leaving group adduct which can react with the base to form a water-soluble compound. By employing a purification method utilizing such a difference in solubility, the syn-leaving group adduct can be separated selectively. The base may be a linear-chain or branched-chain primary to tertiary alkylamine having 1 to 10 carbon atoms, a nitrogen-containing heterocyclic compound with 2 to 20 carbon atoms, and a nitrogen-containing hetero aromatic compound with 2 to 20 carbon atoms.[과제] 방사성 불소 표식 아미노산 표식 화합물의 제조에 유용한 표식 전구체의 제조 방법을 제공하는 것이다.[해결 수단] FACBC의 syn-OH체와 anti-OH체의 혼합물에 탈리기를 도입하는 반응 공정에 있어서, 반응계에 염기를 존재시킴으로써 염기에 대하여 반응성을 나타내지 않고 안정성이 높은 syn 탈리기 부가체와, 염기와 반응해서 수용성 화합물이 되는 anti 탈리기 부가체를 생성한다. 이 용해도 차이를 이용한 정제 방법에 의해 syn 탈리기 부가체를 선택적으로 분리할 수 있게 된다. 염기로서는 직쇄 또는 분기쇄의 탄소수 1~10의 1급~3급의 알킬아민, 탄소수 2~20의 질소 함유 복소환 화합물, 및 탄소수 2~20의 질소 함유 헤테로 방향족환 화합물이 사용된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充