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一种电阻抗断层成像中快速最优的正则化方法
专利权人:
中国人民解放军第四军医大学
发明人:
董秀珍,李彦东,付峰,尤富生,史学涛,刘锐岗,季振宇,徐灿华,代萌
申请号:
CN201310242312.9
公开号:
CN103340625B
申请日:
2013.06.18
申请国别(地区):
CN
年份:
2015
代理人:
摘要:
本发明公开了一种电阻抗断层成像中快速最优的正则化方法。该方法通过建立稀疏和密集两种剖分模型,采用稳健有效的正则参数最优化方法求得稀疏模型的最优正则化参数,然后将稀疏模型的最优正则化参数作为密集模型的正则化参数初值,将稀疏模型的残差作为密集模型下残差的估计,运用迭代类正则化方法求取密集模型的最优正则化参数。该方法实现了密集剖分模型的快速最优正则化,保证了成像的速度和精度。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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