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AUTOMATIC MEASUREMENT OF BEAM QUALITY PARAMETERS
专利权人:
KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.
发明人:
MAACK, Hanns-Ingo
申请号:
IBIB2012/056254
公开号:
WO2013/068957A1
申请日:
2012.11.08
申请国别(地区):
WO
年份:
2013
代理人:
摘要:
The present invention relates to a detector unit, an imaging system, and a method of processing radiography data. In order to provide a detector unit for an X-ray imaging system which permits an improved image processing, taking into account the current physics of the X-ray beam, a detector unit (210) for an X-ray imaging system is provided, comprising a detector device (220) with a detector surface (230), and at least one reference structure (240), and a processing unit (250). The reference structure (250) has predetermined radiation attenuation properties and is located in front of the detector surface (230). The detector device (220) is configured to detect X-ray radiation and to provide respective radiography image signals to the processing unit (250). The processing unit (250) is configured to determine at least one parameter associated with the irradiation of said reference structure (240), and to process radiography image data based on the at least one determined parameter.La présente invention concerne une unité de détecteur, un système dimagerie et un procédé de traitement de données de radiographie. De façon à fournir une unité de détecteur pour un système dimagerie à rayons X qui permet un traitement dimage amélioré, en prenant en compte la physique courante du faisceau de rayons X, une unité de détecteur (210) pour un système dimagerie à rayons X est prévue, laquelle comprend un dispositif de détecteur (220) ayant une surface de détecteur (230), et au moins une structure de référence (240), et une unité de traitement (250). La structure de référence (250) a des propriétés datténuation de rayonnement prédéterminées et est située devant la surface de détecteur (230). Le dispositif de détecteur (220) est configuré pour détecter un rayonnement de rayons X et fournir des signaux dimage de radiographie respectifs à lunité de traitement (250). Lunité de traitement (250) est configurée pour déterminer au moins un paramètre associé à lirradiation de ladite struct
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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