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新規なジブロック共重合体、及びそのジブロック共重合体の自己集合で形成される高移動度・光伝導性異方性ナノワイヤ
专利权人:
独立行政法人物質・材料研究機構
发明人:
リチャード シャルベ,ジョナサン ヒル,有賀 克彦
申请号:
JP2009041732
公开号:
JP5476561B2
申请日:
2009.02.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To form a highly ordered nano-structural material having electronic or photovoltaic properties by self-assembling of a newly prepared diblock copolymer.SOLUTION: The high mobility/photoconductivity anisotropic nanowire is formed by following steps, that is: (i) a step of dissolving the diblock copolymer expressed by formula (1) (ii) a step of depositing the uniform copolymer solution on a substrate (iii) a step of forming a nanowire directly on the substrate by vaporizing the solvent. (In the formula, R represents a phenyl group, each of (p) and (q) is an integer selected from 1-1,000, D represents porphyrin-containing group of a hydrophilic donor and A is a fullerene-containing group of a hydrophobic acceptor).COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】電子的又は光起電力的性質を有して高度に秩序化したナノ構造材料を、新規に調製したジブロック共重合体を自己集合させることによって調製することを目的とした。【解決手段】高移動度・光伝導性異方性ナノワイヤは、次の工程を含む方法によって作製された。(i)下記の式(I)で示されるジブロック共重合体を有機溶媒に溶かす工程と、(ii)均質な共重合体溶液を基板の上に堆積させる工程と、(iii)溶媒を蒸発させ、基板の上に直接ナノワイヤを形成する工程。【化1】(Rはフェニル基、p及びqは1~1000から選ばれる整数、Dは親水性供与体のポルフィリン含有基、そしてAは疎水性受容体のフラーレン含有基である。)【選択図】なし。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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