调节水气构型的栽培基质及其制造方法
- 专利权人:
- 刘克锋
- 发明人:
- 田小坡,刘克锋,杨萌,刘笑冰
- 申请号：
- CN202010928022.X
- 公开号：
- CN112335519A
- 申请日:
- 2020.09.07
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 一种调节水气构型的栽培基质，包括有机成分和无机成分，其中，无机成分占整个栽培基质的体积百分比为20％‑60％，有机成分占整个栽培基质的体积百分比为40％‑80％，所述无机成分中，尺寸为0.25mm‑3mm粒级的碎粒的重量百分比为58％‑76％，所述有机成分中，尺寸为0.25mm‑3mm粒级的碎粒的重量百分比为58％‑76％，本发明的栽培基质通过重新构建各粒级的机械组成，即粒级分布，进而达到调控合理的孔径分布，建立起科学合理的基质水气构型，最大限度地满足植物的水分、氧气、营养供应。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
