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粒子線治療計画装置及び治療計画方法
专利权人:
株式会社日立製作所
发明人:
藤本 林太郎
申请号:
JP2010089126
公开号:
JP5401391B2
申请日:
2010.04.08
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide treatment plan information in which emergence of a high-doze area out of a target area is suppressed in a device for planning a particle treatment.SOLUTION: The device includes: a target area input unit 302 which inputs the target area that is a target of irradiation with particle beam and an arithmetic unit 305 which determines irradiation spots to be irradiated with the particle beam within an irradiation area set to contain the target area. The arithmetic unit 305 determines the irradiation spots so that the irradiation spots are arranged on the contour of the irradiation area, and the interval between adjacent irradiation spots is a predetermined set value or less. In this way, a target area shape in the vicinity of a stop position of particle beam is extracted, and the spot interval is changed dependently on the position within the area so as to form a uniform high-dose area within this shape, whereby divergence between the high-doze area in which the irradiation dose of particle beam in the target area is uniformed and the target area can be suppressed.COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】粒子治療計画装置において標的領域外の高線量領域の出現を抑制する治療計画情報を提供することにある。【解決手段】粒子線を照射する標的となる標的領域を入力する標的領域入力手段302と、標的領域を包含するように設定された照射領域の内部において粒子線を照射する照射スポットを決定する演算装置305を備え、演算装置305が照射領域の輪郭上に前記照射スポットを配置し、かつ、隣り合う照射スポットの間隔が予め定められた設定値以下となるように、照射スポットを決定する。このように粒子線の停止位置近辺の標的領域形状を抽出し、この形状内に一様な高線量領域が形成されるようにスポット間隔を領域内の位置に依存して変化させることで、標的領域での粒子線の照射線量が一様となる高線量領域と標的領域との乖離を抑制することが可能となる。【選択図】 図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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