the invention concerns the manufacture of colloidal concentrated nanosrebra colloids amt.in separate odga\u0142\u0119zieniach process line for manufacturing colloid colloidal concentrated nanosrebra dried in vacuum dryer to obtain dry weight, which is placed in a vacuum chamber kwarcowej reactor heated wire oporowym,after the heated chamber to a temperature of 180 - 210\u00b0c righting by means of a vacuum pump wypary to clean dry weight of impurities within 1 to 2 hours, after which the cleaned dry weight are mixed using a magnetic stirrer with alcohol in a ratio of 1: 10 by the eye oh, 1 hour, after which the mixture is dried in a vacuum oven to obtain the dry weight.which is mixed with the solvent chosen for the branches of manufacturing installations colloids, advantageously selected from the group of solvents: distilled water, alcohols, oils, paraffinic compounds, paraffins, liquid compounds, aliphatic hydrocarbons, in quantities that st\u0119 i nanosrebra to 5000 ppm, in mieszadle magnetic for approximately 1 hour.and then transferred to the container sonikatora mixture, in which a mixture of a ujednoradnia ultrasonic frequency work 20 khz during 5 to 10 minutes.Wynalazek dotyczy sposobu wytwarzania koloidów bakteriobójczych z koloidalnego koncentratu nanosrebra. W odrębnych odgałęzieniach linii technologicznej do wytwarzania koloidów, koloidalny koncentrat nanosrebra suszy się w suszarce próżniowej do uzyskania suchej masy, którą umieszcza się w kwarcowej komorze próżniowej reaktora ogrzewanego drutem oporowym, po czym ogrzewa się komorę do temperatury 180-210°C i odciąga się za pomocą pompy próżniowej wypary w celu oczyszczenia suchej masy z zanieczyszczeń w ciągu 1-2 godzin, po czym oczyszczoną suchą masę miesza się za pomocą mieszadła magnetycznego z alkoholem w stosunku 1:10 przez około 1 godzinę, po czym osusza się mieszaninę w suszarce próżniowej do uzyskania suchej masy, którą miesza się z rozpuszczalnikiem wybranym dla danego odgałęzienia instalacji d
