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一种氧化锆陶瓷修复体粘接面的改性方法
专利权人:
南京医科大学
发明人:
刘梅,章非敏,严雨欣,张青红,胡小坤
申请号:
CN202010087605.4
公开号:
CN111233513A
申请日:
2020.12.02
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明公开了一种氧化锆陶瓷修复体粘接面的改性方法,所述改性方法为:在氧化锆陶瓷修复体粘接面通过原子层沉积法沉积二氧化硅薄膜。本发明改性方法通过ALD技术在牙科氧化锆陶瓷粘接面上发生气‑固化学反应,沉积出均匀共形、且与陶瓷基底结合稳定的二氧化硅薄膜,联合硅烷偶联剂的使用,可以有效增强牙科氧化锆陶瓷与树脂的短期及长期粘接强度,从而改善氧化锆陶瓷材料的粘接性能;另外,ALD技术还能够使粘接面上薄膜的厚度精确控制在纳米级;并且沉积反应温度低,对陶瓷基底性能无影响,因此不会影响氧化锆陶瓷修复体的远期机械性能,从而保证了其临床使用寿命,本发明方法对氧化锆陶瓷在临床上更为广泛的应用具有重要意义。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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