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ビーム調整システム
专利权人:
OSMIC INC
发明人:
BORIS VERMAN,ヴァーマン、ボリス,HARADA JINPEI,原田 仁平
申请号:
JP2013101193
公开号:
JP2013210377A
申请日:
2013.05.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved X-ray optical system for adjusting an X-ray beam by using a crystal.SOLUTION: The present invention provides an X-ray beam adjustment system having a Kirkpatrick Baez type diffraction optical component including two optical elements one of which is a crystal. The elements are arranged by adjoining structure. The crystal may be a perfect crystal. One or both diffraction elements may be mosaic crystals. One element may be a multilayer optical component. For example, the multilayer optical component may be an oval mirror or parabolic mirror in which lattice spacing gradually changes. The gradually changing lattice spacing can be made to gradually change in the horizontal direction, or to change in the depth direction, either or both of them.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】結晶を使用してX線ビームを調整するための、改良されたX線光学システムを提供すること。【解決手段】本発明は、その1つが結晶である2つの光学要素を含んだカークパトリック・バエズ型の回折光学部品を有したX線ビーム調整システムを提供する。要素は、隣り合わせの構成で配置される。結晶は、完全結晶とすることができる。1つ又は両方の回折要素は、モザイク結晶とすることができる。1つの要素は、マルチレイヤ光学部品とすることができる。たとえば、マルチレイヤ光学部品は、格子面間隔が徐々に変わる楕円形ミラー又は放物線状ミラーとすることができる。徐々に変わる格子面間隔は、横方向に徐々に変わる、又は深さ方向に変わる、いずれか又はその両方とすることができる。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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