离子修饰的原卟啉镓化合物及其制备方法和应用
- 专利权人:
- 天津大学
- 发明人:
- 张雷,朱迎男,张浩
- 申请号：
- CN202010588582.5
- 公开号：
- CN111848656B
- 申请日:
- 2020.06.24
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2023
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明属于有机合成和药物领域，具体涉及一种离子修饰的原卟啉镓化合物及其制备方法和应用。离子修饰的原卟啉镓化合物具有以下结构：其中m为1，2或3；n为1，2或3；R1为乙基或乙烯基；R2为H，COO‑或SO3‑；M‑X为Ga‑Cl或者Ga‑NO3；当原卟啉类化合物络合镓之后，除了具有原卟啉类光敏剂光动力抗菌的性能，同时又赋予化合物阻断铁代谢的抗菌机制，双管齐下，协同抗菌，有利于降低最小抑菌浓度，提高抗菌效率，增强对细菌的靶向性，克服细菌耐药性。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
