多碘修饰的氟硼二吡咯类衍生物及其制备方法和应用
- 专利权人:
- 苏州大学
- 发明人:
- 郭正清,何慧,陈华兵,杨红,饶佳明,史梦柯,王孟雅,应宇辰,张韶
- 申请号：
- CN201910299092.0
- 公开号：
- CN110003461A
- 申请日:
- 2019.15.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种多碘修饰的氟硼二吡咯类衍生物,该氟硼二吡咯类衍生物以氟硼二吡咯为母核,通过缩合反应延长了氟硼二吡咯的共轭体系,并在末端引入亲水的乙二醇链,再通过亲电取代反应引入不同数量的碘原子得到的。本发明还公开了所述氟硼二吡咯类衍生物的制备方法及其应用。本发明的多碘修饰的氟硼二吡咯类衍生物,同时具有光动力和光热治疗效果,相应地避免了临床光敏剂的治疗效果单一和靶向性差的缺点。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
