您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

LOW-MOLECULAR POLYSULFATED HYALURONIC ACID DERIVATIVE AND THERAPEUTIC AGENT COMPRISING THEREOF
专利权人:
ОЦУКА ФАРМАСЬЮТІКАЛ КО., ЛТД.
发明人:
Какехі Кадзуакі,Асаі Хіроакі,Хаясі Наохіро,Сімідзу Сатосі,Гото Фумітака,Кога Ясуо,Томоясу Такахіро,Такі Такао,Като Юсуке,Накадзато Сатору,Такаба Дзундзі,Адзума Ацусі,Хірано Вакако,Ідзумі Кадзунарі,Кас
申请号:
UA201110592
公开号:
UA105781C2
申请日:
2010.02.01
申请国别(地区):
UA
年份:
2014
代理人:
摘要:
A low-molecular polysulfated hyaluronic acid derivative useful in the prevention and/or treatment of allergic diseases. Provided is a preventive and/or therapeutic agent for an allergic disease selected from pollinosis, allergic rhinitis, allergic conjunctivitis, atopic dermatitis, and asthma, the agent containing either a low-molecular polysulfated hyaluronic acid derivative represented by general formula (IA) or (IB) or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient. [In the formulae, n is a number of 0-15, and Rs each independently represents a hydrogen atom, an SOH group, etc.]Предложено низкомолекулярное полисульфатированное производное гиалуроновой кислоты, пригодное для профилактики и/или лечения аллергического заболевания.Предложено средство для профилактики и/или лечения аллергического заболевания, выбранного из поллиноза, аллергического ринита, аллергического конъюнктивита, атопического дерматита и астмы, которое отвечает следующей общей формуле (IA) или (IB):, (IA), (IB)где n представляет собой число от 0 до 15 каждый R независимо представляет собой атом водорода или группу SOH и т.д.Запропоноване низькомолекулярне полісульфатоване похідне гіалуронової кислоти, придатне для профілактики і/або лікування алергічного захворювання.Запропонований засіб для профілактики і/або лікування алергічного захворювання, вибраного з полінозу, алергічного риніту, алергічного конюнктивіту, атопічного дерматиту і астми, що відповідає наступній загальній формулі (ІА) або (IB):, (IA), (IB)де n являє собою число від 0 до 15 кожний R незалежно являє собою атом водню або групу SOH і т. д.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充