黄瓜抗蔓枯病渐渗系HH1‑8‑1‑2的培育方法及抗性基因位点分子标记

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专利权人:

南京农业大学

发明人:

陈劲枫,张旭,徐建,刘佳,娄群峰,娄丽娜,李季

申请号：

CN201610747510.4

公开号：

CN106171963A

申请日:

2016.08.25

申请国别(地区):

中国

年份:

2016

代理人:

摘要：

本发明属于生物技术育种领域，涉及黄瓜抗蔓枯病渐渗系材料的培育方法。通过该材料获得黄瓜抗蔓枯病分子标记，专用于黄瓜抗蔓枯病分子辅助育种。本发明通过野生种与栽培种的种间杂交，染色体加倍后获得异源四倍体新种，经回交、自交，获得种间渐渗系。通过接种鉴定发现渐渗系HH1‑8‑1‑2的病情指数为24.6，表现为抗病。抗蔓枯病基因QTL位点与标记SSR17406紧密连锁。本发明成功选育了黄瓜抗蔓枯病渐渗系材料，该材料农艺性状优良，可作为育种材料。通过本发明提供的黄瓜抗蔓枯病基因QTL位点的分子标记检测HH1‑8‑1‑2的衍生品种(系)中是否含有该基因位点，可预测其抗性，提高选择效率，加速选育进程。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/