您的位置：
首页
>
农业专利
>
详情页
イミダゾール化合物と、ビスエポキシドと、ハロベンジル化合物との反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法
- 专利权人:
- ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ;ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
- 发明人:
- マシュー・ソーセス,ズーラ・ニアジンベトワ,イー・チン,ジュリア・ウォーティンク,ジュリア・コズック,エリック・レディングトン,マーク・ルフェーブル
- 申请号：
- JP20160150622
- 公开号：
- JP2017036502(A)
- 申请日:
- 2016.07.29
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】実質的に均一な形態を有し、また実質的にノジュールが存在しない、銅／フォトレジスト画定フィーチャを提供する。銅ピラー及びボンドパッドは、実質的に平坦なプロファイルを有する。電気銅めっき浴及び方法は、所望の形態を達成するための平均％ＴＩＲを可能にする方法の提供。【解決手段】実質的に均一な形態を有するフォトレジスト画定フィーチャのめっきを可能にする電気めっき法は、フォトレジスト画定フィーチャを電気めっきするためのイミダゾール化合物と、ビスエポキシドと、ハロベンジル化合物との反応生成物を用いた電気銅めっき浴を含む。そのようなフィーチャは、ピラー、ボンドパッド、及び線幅／線間フィーチャを含む。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
