There is provided a method of manufacturing an electron beam irradiated osseous implant. The method includes exposing an osteo-ophthalmic implant containing bone-depleted bone (DBM) fibers to electron beam radiation at a dose of about 10 kilo-gray to 100 kilo-gray for a period of time. The electron beam irradiation reduces microorganisms in the osteo-ophthalmic implant and the electron beam irradiated osteo-ophthalmic implant retains bone-osmotic properties. Methods of implantation and irradiated osseous implants are also disclosed.전자 빔 조사된 골유도성 임플란트를 제조하는 방법이 제공된다. 상기 방법은 일정한 기간 동안 약 10 킬로그레이 내지 100 킬로그레이의 선량으로 전자 빔 방사선에 무기질이 제거된 골 바탕질 (DBM) 섬유를 함유하는 골유도성 임플란트를 노출시키는 단계를 포함한다. 상기 전자 빔 조사는 상기 골유도성 임플란트 내의 미생물을 감소시키고 전자 빔 조사된 골유도성 임플란트는 골유도성 특성을 보유한다. 이식 방법과 조사된 골유도성 임플란트가 또한 개시된다.
