The invention relates to compound of generic formula (I) in which: R1 and R2 represent: OH, a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl radical a C1-C6 alkoxy radical, a halogen, or OCOR3； R3 represents: a C1-C24 alkyl radical a C12-C24 alkenyl radical comprising at least one unsaturation； R4 represents: COR5, a glucide substituted or not by one or more acetyl radical(s)； R5 represents: a C10-C24 alkyl radical or a C12-C24 alkenyl radical comprising at least one unsaturation； R6 and R7 represent:&mdash；simultaneously a hydrogen atom or a methyl radical, or&mdash；when R6 represents a hydrogen atom, R7 represents a C1-C6 alkyl radical or a phenyl substituted or not by one or more C1-C3 alkoxy radical(s) or one or more halogen(s) or&mdash；R6 and R7 are bonded together and form a C3-C6 cycloalkyl, and pharmaceutically or cosmetically acceptable salts.본 발명은 일반식 (I)의 화합물 또는 화장품적으로 및 약학적으로 허용되는 염에 관한 것이다.여기에서:R1 및 R2 는 동시에 또는 독립적으로: OH, 수소원자, C1-C6 알킬 라디칼, C1-C6 알콕시 라디칼, 할로겐, 또는 OCOR3； R3은: C1-C24 알킬 라디칼, 최소한 하나, 바람직하게는 1 내지 6 및 유리하게는 1 내지 4 개의 불포화 결합을 가지는 C12-C24 알케닐 라디칼； R4 는: COR5, 하나 이상의 아세틸 라디칼(들)에 의해 치환되거나 치환되지 않은 글루시드 라디칼, R5 는: C10-C24 알킬 라디칼, 또는 최소한 하나, 바람직하게는 1 내지 6 및 유리하게는 1 내지 4 개의 불포화 결합을 가지는 C12-C24 알케닐 라디칼； R6및R7 은: - 동시에 수소원자 및 메틸 라디칼, 또는 - R6 이 수소원자일 때, R7 은 C1-C6 알킬 라디칼 또는 하나 이상 C1-C3 알콕시 라디칼(들) 또는 하나 이상 할로겐(들)에 의해 치환되거나 치환되지 않은 페닐, 또는 - R6 및 R7 은 서로 결합되어 C3-C6시클로알킬을형성한다.
