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ポジ型感光性シロキサン組成物、アクティブマトリクス基板、表示装置、及びアクティブマトリクス基板の製造方法
- 专利权人:
- 堺ディスプレイプロダクト株式会社;アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ
- 发明人:
- 野寺 伸武,篠塚 章宏,小岩 真司,加藤 真裕,松本 隆夫,福家 崇司,横山 大志,谷口 克人
- 申请号：
- JP20160573406
- 公开号：
- JPWO2016125836(A1)
- 申请日:
- 2016.02.03
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 形成される膜が高耐熱性、高強度、及び高クラック耐性を有するポジ型感光性シロキサン組成物、副生成物が生じず、不良の発生が抑制され、容易に安価に層間絶縁膜が形成され、透過率が良好であるアクティブマトリクス基板、該アクティブマトリクス基板を備える表示装置、並びに該アクティブマトリクス基板の製造方法を提供する。アクティブマトリクス基板３０は、絶縁基板１０上に、互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート配線１１と、各ゲート配線１１と交叉する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース配線１２とを有する。ソース配線１２の下側の、ゲート配線１１とソース配線１２との交叉部分を含む部分に、層間絶縁膜１４及びゲート絶縁膜１５が介在している。層間絶縁膜１４はポジ型感光性シロキサン組成
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
