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HAIR CLEANSING COMPOSITION
专利权人:
NOF CORPORATION;니치유 가부시키가이샤
发明人:
MATSUO SATOSHI,마츠오 사토시,FUJITA HIROYA,후지타 히로야,YAMANAKA AIKO,야마나카 아이코,UEDA RYU,우에다 류,MATSUO SATOSHIJP,FUJITA HIROYAJP,YAMANAKA AIKOJP,UEDA RYUJP
申请号:
KR1020160037560
公开号:
KR1020160117293A
申请日:
2016.03.29
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
The purpose of the present invention is to provide a hair cleansing agent composition which is excellent in a bubble generating rate and bubble elasticity, has good finger passing properties when rinsing hair, and is capable of giving moistness to the hair after drying the hair. A hair cleansing agent composition according to the present invention comprises: 0.1 to 10 % by mass of a surfactant represented by chemical formula 1 as a component (a); 1 to 20% by mass of a surfactant represented by chemical formula 2 as a component (b); 1 to 20% by mass of an amphoteric surfactant as a component (c); and 0.01 to 3% by mass of a cationized polymer as a component (d), wherein a mass ratio of the component (a) to the component (b) ((a)/(b)) is 0.1 to 1. In the chemical formulas, each symbol is as defined in the specification.(과제) 거품 발생의 속도와 거품의 탄성이 우수함과 함께, 헹굼시의 손가락 통과성이 양호하고, 건조 후에 촉촉함을 부여할 수 있는 모발 세정제 조성물의 제공.(해결 수단) (a) 성분 : 식 (1) 로 나타내는 계면활성제를 0.1 ∼ 10 질량%, (b) 성분 : 식 (2) 로 나타내는 계면활성제를 1 ∼ 20 질량%, (c) 성분 : 양쪽성 계면활성제를 1 ∼ 20 질량%, (d) 성분 : 카티온화 폴리머를 0.01 ∼ 3 질량% 함유하고, (a) 성분과 (b) 성분의 질량비 ((a)/(b)) 가 0.1 ∼ 1 인 것을 특징으로 하는 모발 세정제 조성물.[화학식 1](식 (1) 중, 각 기호는 명세서 중에서 정의한 바와 같다)[화학식 2](식 (2) 중, 각 기호는 명세서 중에서 정의한 바와 같다)
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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