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调节水气构型的育苗基质及其制造方法
专利权人:
刘克锋
发明人:
田小坡,刘克锋,杨萌,刘笑冰
申请号:
CN202010928011.1
公开号:
CN112335518A
申请日:
2020.09.07
申请国别(地区):
CN
年份:
2021
代理人:
摘要:
一种调节水气构型的育苗基质,包括有机成分和无机成分,其中,无机成分占整个育苗基质的体积百分比为20%‑60%;有机成分占整个育苗基质的体积百分比为40%‑80%;所述无机成分中,尺寸为0.25mm‑3mm粒级的碎粒的重量百分比为60%‑75%;所述有机成分中,尺寸为0.25mm‑3mm粒级的碎粒的重量百分比为60%‑75%。本发明的育苗基质通过重新构建大、中、小颗粒的各个粒级比例即粒级分布,可以达到调控合理的粒径大、中、小颗粒的空隙比例即孔径分布,建立起科学合理的基质水气构型,最大限度地满足植物的水分、氧气、营养供应。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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