disinfection apparatus comprises a disinfection chamber, C-wave ultraviolet rays from the radiation source (UV-C) is released to the disinfection chamber. Radiation sensor detects the C wave ultraviolet light amount of disinfection in the chamber, temperature sensor, presenting a temperature value of the disinfection chamber. Processing unit generates a cumulative C-wave ultraviolet value, while the cumulative C-wave ultraviolet value is confirmed to reach the first radiation threshold, also the temperature of disinfection in the chamber is below a first temperature threshold value Check. While the total time of the disinfection treatment is limited to the primary timed intervals, over one or more fixed periods, may emit C-wave ultraviolet into disinfection chamber. Processing, if it exceeds a first radiation threshold before successfully primary timed interval expires, it is stopped. The disinfection device is provided in a short period of time and at low temperature a high degree of disinfection of the contamination.FIELD 11B消毒装置は、消毒チャンバを含み、消毒チャンバに放射線源からC波紫外線(UV-C)が放出される。放射線センサは、消毒チャンバ内のC波紫外線量を検出し、温度センサは、消毒チャンバ内の温度値を提示する。処理部は、累積C波紫外線値を生成し、累積C波紫外線値が第1の放射線閾値に達することを確認する一方で、消毒チャンバ内の温度が第1の温度閾値を下回っていることも確認する。消毒処理の合計時間がプライマリ時限インターバルに限定されている間、1以上の固定期間にわたって、C波紫外線を消毒チャンバ内へ放出してよい。処理は、首尾良くプライマリ時限インターバルが満了する前に第1の放射線閾値を超えれば、停止してよい。当該消毒装置は、被汚染物の高度な消毒を短時間且つ低温度で提供する。【選択図】図11B
