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ANHYDROUS BASE FOR COSMETIC OR DRUG FORMULATIONS
专利权人:
ANTHONY ESPOSITO;THOMAS SCHAMPER;LYUDMILA BEREZNER;MICHAEL A. KNOPF;AMIT PATEL;WILLIAM C. WOHLAND
发明人:
ANTHONY ESPOSITO,MICHAEL A. KNOPF,AMIT PATEL,LYUDMILA BEREZNER,THOMAS SCHAMPER,WILLIAM C. WOHLAND
申请号:
US15019308
公开号:
US20160228344A1
申请日:
2016.02.09
申请国别(地区):
US
年份:
2016
代理人:
摘要:
Embodiments disclosed herein include a deodorant or antiperspirant base that includes cyclomethicone and propylene glycol dispersed in the cyclomethicone.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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