ZEPER, Wouter Bastiaan,SMITS, Paulien,DE PENNING, Johannes Pieter,VAN OORT, Matthijs Andreas
申请号：
NLNL2019/050629
公开号：
WO2020/060409A1
申请日:
2019.09.20
申请国别(地区):
NL
年份:
2020
代理人:
摘要：
The invention relates to an electrode arrangement to be coupled to a high voltage source for a dielectric barrier discharge plasma treatment of a to be treated tissue of a patient, which treatment surface is used as a counter electrode, having a plasma generating to be coupled to the high voltage source via a first lead； a dielectric shielding the plasma generating from the surface to be treated； a spacer defining a structured surface on a side of said arrangement facing a surface to be treated, said plasma generating being fitted to the object to be treated and brought in contact with the dielectric, a driver circuit for driving the plasma generating coupled to said high voltage source, wherein the driver circuit drives the plasma generating in a first voltage； said driver arranged to simultaneously drive the plasma generating at a second voltage, wherein first and second voltages combined do not exceed a range of 3-8k V.L'invention concerne un agencement d'électrodes destiné à être couplé à une source de haute tension à des fins de traitement par plasma à décharge à barrière diélectrique d'un tissu à traiter d'un patient, ladite surface de traitement servant de contre-électrode, comportant une génération de plasma à coupler à la source de haute tension par l'intermédiaire d'un premier conducteur； un diélectrique protégeant la génération de plasma à partir de la surface à traiter； un espaceur définissant une surface structurée sur un côté dudit agencement faisant face à une surface à traiter, ladite génération de plasma étant adaptée à l'objet à traiter et amenée en contact avec le diélectrique, un circuit de pilotage destiné à piloter la génération de plasma couplé à ladite source de haute tension, le circuit de pilotage pilotant la génération de plasma à une première tension； ledit circuit de pilotage étant conçu pour piloter simultanément la génération de plasma à une seconde tension, les première et seconde tensions combinées ne dépassant pas une plage de 3 à 8
