The grinding base and its production manner which suppress the reactivity for NaF are offered. The calcium diphosphate anhydrate the fact that it heats treats under existing of magnesium content chemical compound and the condensation phosphorus acid chloride is included, production manner of the grinding base. The abundance of magnesium content chemical compound, is the range 1500 - 5000ppm as a magnesium tonnage vis-a-vis the calcium diphosphate anhydrate, the abundance of the condensation phosphorus acid chloride, mol ratio of the cation component which forms the condensation phosphorus acid chloride for the magnesium of magnesium content chemical compound the range of 0.4/n - 12/n (however, n is the number of values of the above-mentioned cation component) to be, heating treatment condition, is the range of 100 - the 300C. The grinding base which designates the calcium diphosphate anhydrate which is something which contains magnesium and the condensation phosphorus acid chloride, suppresses the reactivity of the fluorine compound as the main component. Content of magnesium is the range 1500 -, 5000ppm is the range of 0.4/n - 12/n as the mol ratio content of the cation component which forms the condensation phosphorus acid chloride for the content of magnesium.NaFに対する反応性を抑制した研磨基剤及びその製造方法を提供する。第二リン酸カルシウム無水和物をマグネシウム含有化合物及び縮合リン酸塩の存在下で加熱処理することを含む、研磨基剤の製造方法。マグネシウム含有化合物の存在量が、第二リン酸カルシウム無水和物に対してマグネシウム量として1500~5000ppmの範囲であり、縮合リン酸塩の存在量が、マグネシウム含有化合物のマグネシウムに対する縮合リン酸塩を構成するカチオン成分のモル比が0.4/n~12/nの範囲(但し、nは上記カチオン成分の価数である)であり、加熱処理条件が、100~300℃の範囲である。マグネシウムおよび縮合リン酸塩を含有し、フッ素化合物との反応性を抑制したものである第二リン酸カルシウム無水和物を主成分とする研磨基剤。マグネシウムの含有量が1500~5000ppmの範囲であり、縮合リン酸塩を構成するカチオン成分の含有量がマグネシウムの含有量に対するモル比として0.4/n~12/nの範囲である。
