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PARP 저해 활성을 갖는 신규 화합물
专利权人:
SANTEN PHARMACEUTICAL CO.; LTD.
发明人:
HONDA TAKAHIRO,혼다 다카히로,ENOMOTO HIROSHI,에노모토 히로시,KAWASHIMA KENJI,가와시마 겐지,TAKAOKA SHINJI,다카오카 신지,FUJIOKA YASUTAKA,후지오카 야스타카,MATSUDA MAMORU,마츠다 마모루,OHASHI KOJI,오하시 고지,FUJITA YUKIE,후지타 유키에,HIRAI SHIN ICHI
申请号:
KR1020147001100
公开号:
KR1020140036312A
申请日:
2012.07.12
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
A compound represented by the following general formula (1) or a salt thereof. R 1 represents a halogen atom and so on R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom and so on R 4 and R 5 each represent a hydrogen atom and so on, or R 4 and R 5 may form an oxo group R a and R b each represent a lower alkyl group optionally having a substituent and so on, or they may bind to each other to form a nitrogen-containing heterocyclic ring which may be substituted by one or plural R c R c represents an aryl group optionally having a substituent and so on ring A represents a benzene ring and so on and m represents 0, 1 or 2.하기 화학식 (1)로 표시되는 화합물 또는 그의 염. R1은 할로겐 원자 등을 나타내고 R2 및 R3은 수소 원자 등을 나타내며 R4 및 R5는 수소 원자 등을 나타내거나, 또는 R4와 R5로 옥소기를 형성하여도 좋고 Ra 및 Rb는 치환기를 가져도 좋은 저급 알킬기 등을 나타내거나 또는 결합하여 1 또는 복수개의 Rc로 치환되어도 좋은 함질소 복소환을 형성하여도 좋으며 Rc는 치환기를 가져도 좋은 아릴기 등을 나타내고 고리 A는 벤젠 고리 등을 나타내며 m은 0, 1 또는 2를 나타낸다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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