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平行線パターン形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器
- 专利权人:
- コニカミノルタ株式会社
- 发明人:
- 新妻 直人,大屋 秀信,牛久 正幸,山内 正好
- 申请号：
- JP20160179020
- 公开号：
- JP2017033939(A)
- 申请日:
- 2016.09.13
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】導電体の細線パターンにおいて、透明性と抵抗値の安定性を向上できる平行線パターン形成方法並びに同一抵抗値で比較した場合に透明性を向上できる優れた特性の透明導電膜付き基材、該透明導電膜付き基材を有するデバイス及び該デバイスを備えた電子機器を提供する。【解決手段】導電性材料を含む少なくとも１組以上の平行線３０を有する平行線パターン３を基材上に形成する平行線パターン形成方法であって、基材上に導電性材料を含む線幅の一様なライン状液体２を形成する工程と、ライン状液体２の対流状態を制御しながらライン状液体２を蒸発させることにより、ライン状液体２の縁に導電性材料を選択的に堆積させる工程とを備える。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
