基于线性轨迹的断层合成系统和方法
- 专利权人:
- 通用电气公司
- 发明人:
- B·E·H·克劳斯,B·奥普萨尔-翁,M·亚武兹
- 申请号：
- CN200410062016.1
- 公开号：
- CN1575762B
- 申请日:
- 2004.06.25
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 一种数字断层合成系统采集对象(114)的多个投影射线照相并基于所采集的投影射线照相来重建对象的结构。该数字断层合成系统包括X射线源(110)和检测器(116)。X射线源发射X射线束并在相对于检测器的线性迹线中移动。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
