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POST-TRAITEMENT LORS D'UNE CORRECTION DE LA RÉFRACTION PAR CHIRURGIE DE L'OEIL
专利权人:
Carl Zeiss Meditec AG;Carl Zeiss Meditec AG
发明人:
SEDKY, Ahmed,BISCHOFF, Mark,WOTTKE, Matthias
申请号:
EP18723777.1
公开号:
EP3618787A1
申请日:
2018.05.03
申请国别(地区):
EP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Der Erfindungbezieht sich aufeine Planungseinrichtungzum Erzeugen von Steuerdaten, eine Behandlungsvorrichtungzur Refraktionkorrigierenden Augenchirurgie sowieein Verfahren zum Erzeugenvon Steuerdatenfüreinesolche Behandlungsvorrichtung, welche eine verbesserte nachträgliche Refraktionskorrektur ermöglicht. Dabeiweist die Planungseinrichtung Berechnungsmittel zum Festlegen einer Hornhaut- Schnittfläche für eine Nachbehandlung auf, wobeidie Berechnungsmittelso ausgebildet sind, dass eine Dickenänderungdes Epithels beider Berechnung berücksichtigt wird, die im Wesentlichen durch eine Vorbehandlung hervorgerufen wurde.The invention relates to a planning device for generating control data, a treatment apparatus for refraction correction eye surgery and to a method for generating control data for such a treatment apparatus which allows an improved subsequent refraction correction. The planning device comprises calculation means for defining a cut surface of the cornea for post-treatment, wherein the calculation means are designed such that a change of thickness of the epithel is taken into account in the calculation, which was caused essentially by a pretreatment.L'invention concerne un dispositif de planification conçu pour générer des données de contrôle, un dispositif de traitement conçu pour la chirurgie de correction de la réfraction des yeux et un procédé prévu pour générer des données de contrôle d'un tel dispositif de traitement, permettant une amélioration de la correction ultérieure de la réfraction. En outre, le dispositif de planification comprend des moyens de calcul permettant de définir une surface de coupe cornéenne pour un post-traitement, les moyens de calcul étant conçus de telle sorte que l'on tienne compte, lors du calcul, d'un changement d'épaisseur de l'épithélium essentiellement dû à un prétraitement.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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