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Advanced Oxidation Process for Microbial Reduction
专利权人:
하프크 솔루션스 인코포레이티드
发明人:
모이어, 폴,밴더빈, 마크
申请号:
KR1020197034377
公开号:
KR1020190141222A
申请日:
2017.07.06
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
A system is disclosed for inactivating bacteria and / or reducing the number of microorganisms in a product, in particular food products, susceptible to the presence of microorganisms, the system comprising: i) means for generating UV-C light, ii) means for generating hydrogen peroxide vapor And / or means for generating ozone, and iii) a processing chamber operatively connected to the heat source. Also disclosed is a method of inactivating bacteria and / or reducing the number of microorganisms on a product, particularly foodstuffs, susceptible to the presence of microorganisms, which process the foodstuff in a processing chamber with ultraviolet C (UV-C) light and hydrogen peroxide vapor and / Or exposure to ozone, and heat for a processing time of 5 seconds to 120 seconds, wherein the hydrogen peroxide vapor is present in a solution of 12% v / v or less, the temperature inside the processing chamber is about 22 ℃ to 60 ℃ Is maintained at.미생물 존재에 취약한 생산물, 특히 식료품 상에서 박테리아를 불활성화시키고/거나 미생물 수를 저감시키는 시스템이 개시되며, 상기 시스템은 i) UV-C 광을 발생시키기 위한 수단, ii) 과산화수소 증기를 발생시키기 위한 수단 및/또는 오존을 발생시키기 위한 수단, 및 iii) 열원에 작동적으로 연결된 가공 챔버를 포함한다. 또한, 미생물 존재에 취약한 생산물, 특히 식료품 상에서 박테리아를 불활성화시키고/거나 미생물 수를 저감시키는 방법이 개시되며, 상기 방법은 가공 챔버 내에서 상기 식료품을 자외선 C(UV-C) 광 및 과산화수소 증기 및/또는 오존, 및 열에 5초 내지 120초의 가공 시간 동안 노출시키는 단계를 포함하며, 여기서, 과산화수소 증기는 12% v/v 이하의 용액에서 존재하고, 가공 챔버 내부의 온도는 약 22℃ 내지 60℃에서 유지된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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