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シワ改善方法、シワ改善機能向上方法、シワ改善用化粧料、シワ改善機能向上用化粧料、及びその使用、並びにシワ改善用化粧料の製造方法
专利权人:
KOSE CORP
发明人:
YAMAGUCHI HIROKO,山口 寛子
申请号:
JP2015114725
公开号:
JP2016011296A
申请日:
2015.06.05
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wrinkle improvement technique exhibiting excellent wrinkle improvement effect in comparison with conventional techniques.SOLUTION: The present invention provides the followings: a wrinkle improvement method which performs at least a light irradiation step where skin is irradiated with light with wavelengths of 405-904 nm and an application step where tocotrienol is applied on the skin a wrinkle improvement function improvement method for the tocotrienol which improves the wrinkle improvement function of the tocotrienol, performing at least a light irradiation step where skin is irradiated with light with wavelengths of 405-904 nm and an application step where tocotrienol is applied on the skin a wrinkle improvement cosmetic including the tocotrienol that is applied on the skin before and/or after irradiation with the light with wavelengths of 405-904 nm and a wrinkle improvement function improvement cosmetic including the tocotrienol, which improves a wrinkle improvement function by irradiation with the light with wavelengths of 405-904 nm.COPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT【課題】従来の技術に比べて優れたシワ改善効果を示すシワ改善技術を提供すること。【解決手段】本発明では、波長405~904nmの光を皮膚に照射する光照射工程と、トコトリエノールを皮膚に塗布する塗布工程と、を少なくとも行うシワ改善方法、トコトリエノールのシワ改善機能を向上させる方法であって、波長405~904nmの光を皮膚に照射する光照射工程と、トコトリエノールを皮膚に塗布する塗布工程と、を少なくとも行うトコトリエノールのシワ改善機能向上方法、波長405~904nmの光の照射前及び/又は照射後に塗布される、トコトリエノールを含有するシワ改善用化粧料、波長405~904nmの光の照射によるシワ改善機能を向上させる化粧料であって、トコトリエノールを含有するシワ改善機能向上用化粧料を提供する。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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