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水溶性組成物及びそれを用いて製造した半導体、デバイスの製造方法
专利权人:
東洋合成工業株式会社
发明人:
宮澤 貴士,藤間 佑樹
申请号:
JP20160129338
公开号:
JP2018002814(A)
申请日:
2016.06.29
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
【課題】水溶性が高く、且つ、プラズマエッチング耐性に優れた水溶性組成物を提供する。【解決手段】第1の化合物と、光酸発生剤と、を含み、第1の化合物は、複数の第1のユニットを有し、複数の第1のユニットの各々は、窒素原子上に水素原子以外の少なくとも一つの置換基を有していてもよいアミノ基及び置換基に結合した酸素原子のいずれかに結合した炭素原子と、炭素原子に結合した窒素原子又は酸素原子からなる組成物とする。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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