BOLDUC, John,NAGEL, Chris,LI, Junzhong,HANSON, Catherine,FERNHOLZ, Peter
申请号:
USUS2017/027622
公开号:
WO2017/181005A1
申请日:
2017.04.14
申请国别(地区):
US
年份:
2017
代理人:
摘要:
Peroxyformic acid compositions for removal of biofilm growth and other contaminants and impurities from industrial processing hard surfaces are disclosed. In particular, peroxyformic acid compositions may be dosed on site and/or generated in situ for the reduction and prevention of biofilms on the hard surfaces. Methods of employing the peroxyformic acid compositions for removal of biofilm growth and other impurities such as aldehydes and alcohols from industrial CO2 effluent are also disclosed which beneficially provide ambient biofilm control and break down more rapidly than other peracids, allowing for extended runs between CIP cleaning, including a reduction and/or elimination of cleaning of the scrubbers and other industrial surfaces.L'invention concerne des compositions d'acide peroxyformique pour l'élimination de croissance de biofilm et d'autres contaminants et impuretés à partir de surfaces dures de traitement industrielles. En particulier, des compositions d'acide peroxyformique peuvent être dosées sur site et/ou générées in situ pour la réduction et la prévention de biofilms sur les surfaces dures. L'invention concerne également des procédés d'utilisation des compositions d'acide peroxyformique pour l'élimination de croissance de biofilm et d'autres impuretés, telles que des aldéhydes et des alcools, à partir d'un effluent de CO2 industriel, qui fournissent avantageusement une rupture et une lutte contre un biofilm ambiant plus rapides que d'autres peracides, permettant des programmes prolongés entre le nettoyage CIP, comprenant la réduction et/ou l'élimination de nettoyage des épurateurs et d'autres surfaces industrielles.