在基于光栅的相衬成像和暗场成像中的主动光栅位置跟踪
- 专利权人:
- 皇家飞利浦有限公司
- 发明人:
- S·P·普雷弗尔哈尔,A·亚罗申科,T·克勒
- 申请号：
- CN202080032307.3
- 公开号：
- CN113795751A
- 申请日:
- 2020.11.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及用于在X射线差分相衬成像和暗场成像中的主动光栅位置跟踪的系统和方法。通过利用光束来照射位于光栅上的反射区并探测通过反射区反射的光束的反射图案来测量被定位在X射线成像设备中的至少一个光栅的对齐。将反射图案与对应于针对X射线差分相衬成像而优化的对齐的参考图案进行比较，并且在对反射图案与参考图案的比较时控制X射线成像设备。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
