A liquid treatment method is disclosed, the method comprising: receiving a chemically treated liquid； Passing the chemically treated liquid through a nanobubble generator to produce a nanobubble-containing liquid； Treating the nano-bubble-containing liquid with disinfection radiation to produce a resulting liquid； And discharging the resulting liquid for use. The liquid treatment system comprises: a liquid source； A chemical processing station for testing the chemical content of the source liquid and providing an appropriate amount of chemical treatment to the liquid as needed to provide the chemically treated liquid； A nano bubble generator in fluid communication with the chemical processing station and generating nano bubbles to provide a nano bubble liquid； A radiation based disinfection unit (RDU) in fluid communication with the nano bubble generator and exposing the nano bubble liquid to radiation to provide a treated liquid； A pump to create a liquid flow through the system； And an outlet through which the treated liquid flows.액체 처리 방법이 개시되고, 방법은, 화학 처리된 액체를 수용하는 단계； 화학 처리된 액체를 나노기포 발생기를 통과시켜 나노기포-함유 액체를 생성시키는 단계； 나노기포-함유 액체를 소독 복사선으로 처리하여 결과적인 액체를 생성하는 단계； 및 결과적인 액체를 사용을 위해 배출하는 단계를 포함한다. 액체 처리 시스템은, 액체 소스； 소스 액체의 화학 함량을 시험하고 필요에 따라 적절한 양의 화학 처리를 액체에 제공하여 화학 처리된 액체를 제공하는 화학 처리 스테이션； 화학 처리 스테이션과 유체 연통하고 나노기포를 발생시켜 나노기포 액체를 제공하는 나노기포 발생기； 나노기포 발생기와 유체 연통하고 나노기포 액체를 복사선에 노출시켜 처리된 액체를 제공하는 복사선 기반 소독 유닛(RDU)； 시스템을 통해 액체 유동을 생성하는 펌프； 및 처리된 액체가 유동하는 출구를 포함한다.
