您的位置：
首页
>
农业专利
>
详情页
一种光催化降解真菌毒素的杂化材料graphene/C3N4及其制备方法和应用
- 专利权人:
- 国家粮食局科学研究院
- 发明人:
- 白小娟,伍松陵,孙长坡,柴成梁,罗晓宏,王峻
- 申请号：
- CN201610582810.1
- 公开号：
- CN106311303A
- 申请日:
- 2016.07.22
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种光催化降解真菌毒素的杂化材料graphene/C3N4，它是由氧化石墨烯和纳米光催化剂g‑C3N4按照质量比为0.1‑10:100的比例经过水热合成法制得的具有层层组装结构的杂化材料graphene/C3N4；另外，本发明通过石墨烯修饰量和光降解时间等条件考察了杂化材料graphene/C3N4对光催化降解真菌毒素的影响。本发明通过水热法制备具有可见光响应的杂化材料graphene/C3N4，工艺简单，适合于工业化大批量生产，并且将光催化降解技术应用于降解真菌毒素领域具有很高的应用前景和实用价值。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
