一种光催化降解真菌毒素的杂化材料graphene/ZnO及其制备方法和应用
- 专利权人:
- 国家粮食和物资储备局科学研究院
- 发明人:
- 白小娟,孙长坡,罗晓宏,伍松陵,王峻,柴成梁
- 申请号：
- CN201610582808.4
- 公开号：
- CN106311208B
- 申请日:
- 2016.22.07
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种光催化降解真菌毒素的杂化材料graphene/ZnO,它是由氧化石墨烯和纳米光催化剂ZnO按照质量比为0.1‑10:100的比例经过水热合成法制得的杂化材料graphene/ZnO;另外,本发明通过石墨烯修饰量和光降解时间等条件考察了杂化材料graphene/ZnO对光催化降解真菌毒素的影响。本发明通过水热法制备具有高活性的光催化杂化材料graphene/ZnO,工艺简单,适合于工业化大批量生产,并且将光催化降解技术应用于降解真菌毒素领域具有很高的应用前景和实用价值。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
