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fractional laser system and Irradiation method of fractional laser using a micro lens array
专利权人:
주식회사 제이티에스인더스트리
发明人:
류세훈,박동규
申请号:
KR1020190022442
公开号:
KR1020200104048A
申请日:
2019.02.26
申请国别(地区):
KR
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention relates to a fractional laser system and a fractional laser irradiation method using a microlens array device, and more particularly, a plurality of fine laser spots can be irradiated to a skin object using a microlens array device, The microlens array device is manufactured using a plasma etching method, but the size and intensity of a plurality of fine laser spots can be easily controlled by setting the R value of the microlens to determine the distance to the treatment object. The present invention relates to a fractional laser system and a fractional laser irradiation method using a microlens array device.본 발명은 마이크로렌즈어레이소자를 이용한 프락셔널 레이저 시스템 및 프락셔널 레이저 조사방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 마이크로렌즈어레이소자를 이용하여 복수 개의 미세 레이저 스팟을 피부 대상체에 조사할 수 있을 뿐만 아니라, 마이크로렌즈어레이소자를 플라즈마 식각(Plasma etching)법을 이용하여 제조하되, 마이크로 렌즈의 R값을 설정하여 치료 대상체와의 거리를 결정함으로써, 복수 개의 미세 레이저 스팟의 크기 및 강도를 용이하게 제어할 수 있는 마이크로렌즈어레이소자를 이용한 프락셔널 레이저 시스템 및 프락셔널 레이저 조사방법에 관한 것이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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