露光装置、感光体の製造方法
- 专利权人:
- 株式会社リコー
- 发明人:
- 新潟 一宇
- 申请号：
- JP20150223015
- 公开号：
- JP2017090762(A)
- 申请日:
- 2015.11.13
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】複数のパターンを被露光物に一度に加工することが可能な露光装置、感光体の製造方法を提供する。【解決手段】干渉露光により被露光物を露光する露光装置であって、レーザ光源から発せられた光を回折する一のパターンと一のパターンとは異なるパターンとを有したマスクを回転させる回転装置と、被露光物上に形成された中間層と一のパターンとを位置合わせして被露光物に一のパターンを加工する処理と、中間層と異なるパターンとを位置合わせして被露光物に異なるパターンを加工する処理とを、一度に実行するために、回転装置を制御する制御部と、を備える。【選択図】図６
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