Η παρούσα εφεύρεση αναφέρεται σε μια μέθοδο παρασκευής μιας πηγής ραδιενεργής επιφάνειας για ακτινοθεραπεία, η οποία περιλαμβάνει: παροχή μιας δομής που έχει μια μεταλλική επιφάνεια, τοποθέτηση της εν λόγω δομής σε μια ροή τουλάχιστον ενός ραδιονουκλιδίου έτσι ώστε να συλλέγουν άτομα του εν λόγω τουλάχιστον ενός ραδιονουκλιδίου επάνω ή κάτω από την εν λόγω επιφάνεια, και εφαρμογή κατεργασίας στην εν λόγω επιφάνεια και στα εν λόγω άτομα έτσι ώστε τα εν λόγω άτομα να παρεμβάλλονται στην εν λόγω επιφάνεια αλλά να αφήνονται να αναπηδούν έξω από την εν λόγω επιφάνεια κατά τη ραδιενεργή αποσύνθεση.This invention refers to a method of producing a source of surface radiation for radiation treatment,which includes: provision of a structure having a metallic surface,placing that structure in a stream of at least one radionuclide in order to collect persons of at least one radionuclide above or below that surface,and the application of a treatment to that surface and to those persons so that those persons are interfered with on that surface but are allowed to bounce off that surface； surface during radioactive decomposition.
