The design and manufacturing method of the neutron generation target is disclosed. In some embodiments, the surface of the target substrate can be modified to form one or more surface features. In some embodiments, a neutron source layer can be placed on the surface of the target substrate. In some embodiments, the neutron source layer and the target substrate can be heated to a high temperature for a period of time in order to bond the neutron source layer and the target substrate. In some embodiments, surface modification of the target substrate can reduce blistering and exfoliation of the material. This target can be used in boron neutron supplementation therapy. [Selection diagram] Fig. 3中性子発生ターゲットの設計及び製造方法が開示される。いくつかの実施形態では、ターゲット基板の表面を１つ以上の表面特徴部を形成するように改質することができる。いくつかの実施形態では、ターゲット基板の表面に中性子源層を配置することができる。いくつかの実施形態では、中性子源層とターゲット基板を結合するために、中性子源層とターゲット基板をある時間にわたって高温に加熱することができる。いくつかの実施形態では、ターゲット基板の表面改質はブリスタリングおよび材料の剥離を軽減することができる。このターゲットはホウ素中性子補足療法で使用することができる。【選択図】図３
