A method for coating an implant fixture comprises: a step of immersing a coated object in a washing solution, and washing the same using ultrasonic waves； an etching step of inserting the coated object in a chamber and performing surface washing by Ar and activation in vacuum； an intermediate layer coating step of coating a chrome layer which is an intermediate layer by using a chrome target with a puttering method after the process； an amorphous carbon layer coating step of performing sputtering using the chrome target, injecting acetylene gas, and coating an amorphous carbon layer by using a linear ion source； and a titanium dioxide layer coating step of coating a titanium dioxide layer by using a titanium dioxide target with the sputtering method.본발명은 임플란트 픽쳐 코팅방법에 있어서, 코팅대상물을 세척액에 담그고 초음파세척을 통하여 세척하는 단계； 챔버에 장입한 후 진공상태에서 Ar에 의한 표면 세척과 활성화를 동시에 시행하는 에칭 단계； 상기 공정 후, 스퍼터링 방법으로 크롬타겟을 이용하여 중간층인 크롬층을 코팅하는 중간층 코팅단계； 크롬타겟을 이용하여 스퍼터링하는 동시에 아세틸렌가스를 주입하고 리니어 이온 소스 (Linear Ion Source)를 이용하여 비정질 탄소 층을 코팅하는 비정질 탄소 층 코팅 단계； 스퍼터링방법으로 이산화티탄 타겟을 이용하여 이산화티탄층을 코팅하는 이산화티탄 층 코팅 단계；를 포함하는 것으로,본발명은 임플란트 픽쳐가 고경도, 고윤활성, 내구성이 있는 현저한 효과가 있다.
