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经表面处理的形状记忆材料及其制造方法
专利权人:
港大科桥有限公司;香港城市大学;港大科桥有限公司;香港城市大学
发明人:
张文智,杨伟国,吕维加,潘伟业,朱剑豪
申请号:
CN201410366096.3
公开号:
CN104294233A
申请日:
2006.01.11
申请国别(地区):
CN
年份:
2015
代理人:
摘要:
本申请涉及经表面处理的形状记忆材料及其制造方法。本发明提供一种例如由NiTi合金制造表面处理过的形状记忆材料的方法,该方法使用等离子浸没离子注入和沉积法以及相关的基于离子束和等离子的技术来改变那些主要用于生物医学应用的材料的表面特性。所述表面用氮、氧和碳处理,但在注入其他成分例如硅后变成生物惰性。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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