CHAE, Hea Seok,채해석,CHOI, Khee Hwan,최기환,KIM, Kyong Seob,김경섭
申请号：
KRKR2015/013758
公开号：
WO2016/099132A1
申请日:
2015.12.15
申请国别(地区):
WO
年份:
2016
代理人:
摘要：
The present invention relates to a topical composition for skin, a cosmetic composition or a mascara composition. The present invention can provide a topical composition for skin, a cosmetic composition or a mascara composition, having applied a functional polymer suitable for forming a film, which shows low solubility for polar and non-polar solvents and has less running properties for the solvents. The composition, which has the polymer applied thereto, can show resistance against various solvents such as sebum, sweat, tears and the like and thus enables makeup and the like to effectively last. Moreover, the composition comprises particular oil and/or wax and thus has excellent long-term storage stability and enables smooth application, effective lasting of makeup and the like and obtaining of excellent long-term stability and makeup effect.La présente invention concerne une composition topique pour la peau, une composition cosmétique ou une composition de mascara. La présente invention permet de disposer dune composition topique pour la peau, dune composition cosmétique ou dune composition de mascara sur laquelle est appliqué un polymère fonctionnel adapté à la formation dun film, qui présente une faible solubilité pour des solvants polaires et non polaires et qui présente moins de propriétés découlement pour les solvants. La composition, sur laquelle est appliqué le polymère, peut présenter une résistance à divers solvants tels que le sébum, la sueur, les larmes et analogue, et permet ainsi au maquillage et analogue de tenir efficacement. De plus, la composition comprend de lhuile et/ou de la cire particulière et présente par conséquent une excellente stabilité de stockage à long terme, permet une application lisse, une tenue efficace du maquillage et analogue et permet dobtenir une excellente stabilité à long terme et un excellent effet de maquillage.본 출원은 피부 외용제 조성물, 화장료 조성물 또는 마스카라 조성물에 관한 것이다. 본 출원에서는, 극성 및 비극성 용매에 대하여 낮은 용해도를 나타내고, 상기 용매에 대하여 낮은 번짐 특성을 가지는
