CHAE, Hea Seok,채해석,CHOI, Khee Hwan,최기환,KIM, Kyong Seob,김경섭,KIM, Su Jeong,김수정,YOON, Jeong Ae,윤정애,YOON, Sung Soo,윤성수,HONG, Sang Hyun,홍상현
申请号:
KRKR2015/013757
公开号:
WO2016/099131A1
申请日:
2015.12.15
申请国别(地区):
WO
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present invention relates to a topical composition for skin, a cosmetic composition or a mascara composition. The present invention can provide a topical composition for skin, a cosmetic composition or a mascara composition to which is applied a functional polymer suitable for forming a film, the polymer showing a low solubility for polar and non-polar solvents and having the characteristic of running less in response to the solvents. The composition, which has the polymer applied thereto, can show resistance against various solvents such as sebum, sweat, tears and the like and thus enables makeup and the like to effectively last.La présente invention concerne une composition topique pour la peau, une composition cosmétique ou dans une composition de mascara. La présente invention peut permettre dobtenir une composition topique pour la peau, une composition cosmétique ou une composition de mascara, dans lesquelles est utilisé un polymère fonctionnel approprié pour former un film, le polymère présentant une faible solubilité par rapport à des solvants polaires et non polaires et présentant des propriétés de coulure moindre en réponse aux solvants. La composition, dans laquelle est utilisé le polymère, peut présenter une résistance contre divers solvants tels que le sébum, la sueur, les larmes et analogue et permet ainsi au maquillage et analogue de durer efficacement.본 출원은 피부 외용제 조성물, 화장료 조성물 또는 마스카라 조성물에 관한 것이다. 본 출원에서는, 극성 및 비극성 용매에 대하여 낮은 용해도를 나타내고, 상기 용매에 대하여 낮은 번짐 특성을 가지는 필름 형성에 적합한 기능성 고분자를 적용한 피부 외용제 조성물, 화장료 조성물 또는 마스카라 조성물이 제공될 수 있다. 상기 고분자가 적용된 조성물은 피지, 땀 및 눈물 등과 같은 다양한 용매에 대하여 내성을 나타낼 수 있어서 화장 등의 지속성이 효과적으로 유지될 수 있다.