This sustained release antimicrobial agent includes antimicrobial metal particles, metal particles having an oxidation-reduction potential that is lower than the oxidation-reduction potential of the metal that constitutes the antimicrobial metal particles, and a hydrophilic substrate, the metal particles having a low oxidation-reduction potential being included in a range of one to five times the amount of the antimicrobial metal particles. At least a portion of the antimicrobial metal particles is preferably in contact with at least a portion of the metal particles having a low oxidation-reduction potential. The antimicrobial metal particles are preferably at least one selected from the group consisting of silver and copper, and the metal particles having a low oxidation-reduction potential are preferably at least one selected from the group consisting of aluminum and zinc.Selon l'invention, un agent antimicrobien à libération prolongée comprend des particules métalliques antimicrobiennes, des particules métalliques ayant un potentiel d'oxydoréduction qui est inférieur au potentiel d'oxydoréduction du métal qui constitue les particules métalliques antimicrobiennes, et un substrat hydrophile, la quantité des particules métalliques ayant un faible potentiel d'oxydoréduction étant une à cinq fois celle des particules métalliques antimicrobiennes. Au moins une partie des particules métalliques antimicrobiennes est de préférence en contact avec au moins une partie des particules métalliques à faible potentiel d'oxydoréduction. Les particules métalliques antimicrobiennes sont de préférence au moins un élément choisi dans le groupe constitué de l'argent et du cuivre, et les particules métalliques ayant un faible potentiel d'oxydoréduction sont de préférence au moins un élément choisi dans le groupe constitué de l'aluminium et du zinc.抗菌性金属粒子と、該抗菌性金属粒子を構成する金属の酸化還元電位より酸化還元電位の低い金属粒子と、親水性基材とを含有する徐放性抗菌剤であって、該酸化還元電位の低い金属粒子が、該抗菌性金属粒子の含有量の１倍以上５倍以下の範囲で含有される徐放性抗菌剤である。該抗菌性金属粒子の少なくとも
