Gezeigt werden ein Verfahren und ein System zum Analysieren eines Stoffes (100). Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte: Anordnen eines optischen Mediums (10) auf einer Stoffoberfläche, so dass zumindest ein Bereich der Oberfläche (12) des optischen Mediums (10) in Kontakt mit der Stoffoberfläche steht； Aussenden eines Anregungs-Lichtstrahls mit einer Anregungswellenlänge durch den Bereich der Oberfläche (12) des optischen Mediums (10), der in Kontakt mit der Stoffoberfläche steht, auf die Stoffoberfläche； Aussenden eines Mess-Lichtstrahls durch das optische Medium (10) auf den Bereich der Oberfläche (12) des optischen Mediums (10), der in direktem Kontakt mit der Stoffoberfläche steht, derart, dass der Mess-Lichtstrahl und der Anregungs-Lichtstrahl auf der Grenzfläche des optischen Mediums (10) und der Stoffoberfläche, an der der Mess-Lichtstrahl reflektiert wird, überlappen； direktes oder indirektes Detektieren einer Ablenkung des reflektierten Mess-Lichtstrahls in Abhängigkeit von der Wellenlänge des Anregungs-Lichtstrahls； und Analysieren des Stoffes (100) anhand der detektierten Ablenkung des Mess-Lichtstrahls in Abhängigkeit von der Wellenlänge des Anregungs-Lichtstrahls.A method and system for analysing a substance (100) are shown. The procedure includes the following steps: placing an optical medium (10) on a material surface, so that at least one area of the surface (12) of the optical medium (10) is in contact with the material surface； emitting an excitement beam with an excitement wave length through the area of the surface (12) of the optical medium (10),which is in contact with the surface of the material, on the surface of the material； sending a light beam through the optical medium (10) to the area of the surface (12) of the optical medium (10),which is in direct contact with the material surface in such a way that the measurement light beam and the excitement light beam overlap on the interface of the optical medium (10) and the material su
