Die vorliegende Erfindung betrifft eine Photosensibilisatorzusammensetzung, umfassend(a) wenigstens eine Phenalen-1-on-Verbindung der allgemeinen Formel (1)worin wenigstens einer der Reste R1 bis R7 ein organischer Rest W1 ist, wobei der organische Rest W1 jeweils unabhängig voneinander einen Rest der allgemeinen Formel (2) bis (6) darstellt:*- [(C(D)(E))d - B]a - (C(D)(E))m - X (2)* - A - [(C(D)(E))d - B]c - (C(D)(E))m - X (3)* - (C(D)(E))d - Ar - (C(D)(E))n - X (4)* - [(C(D)(E))d - B]b - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X (5)* - A - [(C(D)(E))d - B]f - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X (6)wobei der Rest X jeweils unabhängig voneinander eine (im Hinblick auf (b)) reaktive funktionelle Gruppe ist, und(b) wenigstens eine polymere Komponente und/oder deren Vorläufer,einen Gegenstand, umfassend eine diese Photosensibilisatorzusammensetzung enthaltende, ausgehärtete Polymerzusammensetzung, undderen Verwendung zur, vorzugsweise photodynamischen, Inaktivierung von Mikroorganismen (insbesondere zur photodynamischen Oberflächenreinigung und/oder Oberflächenbeschichtung eines Gegenstandes oder Raumes und/oder zur Oberflächenbeschichtung von Gegenständen, wie z.B. Medizinprodukten, Lebensmittelverpackungen, Verpackungsfolien, Textilien, Baustoffen, Spielzeugen, elektronische Geräten, Möbeln oder Hygieneartikeln).The present invention relates to a photosensitizer composition comprising(a) at least one phenalen-1-one compound of the general formula (1)in which at least one of the radicals R 1 to R 7 is an organic radical W 1, the organic radical W 1 in each case independently of one another representing a radical of the general formula (2) to (6): * - [(C (D) (E)) d - B] a - (C (D) (E)) m -X (2) * -A- [(C (D) (E)) d -B] c - (C (D) (E)) m - X (3) * - (C (D) (E)) d - Ar - (C (D) (E)) n - X (4) * - [(C (D) (E)) d - B] b - (C (D) (E)) g - Ar - (C (D) (E)) n - X (5) * - A - [(C (D) (E)) d - B] f - (C (D) (E)) g - Ar - (C (D) (E)) n - X (6
