The invention relates to a substrate with an electron donating surface, having metal particles on its surface, the metal particles including palladium and at least one metal selected from gold, ruthenium, rhodium, osmium, iridium, and platinum, wherein the amount of the metal particles is from about 0.001 to about 8 &mu；g/cm2. A method of manufacturing the substrate including the steps a) depositing metal particles from a suspension of metal particles onto the substrate, b) rising and c) drying.Cette invention concerne un nouveau substrat permettant de modifier les propriétés antimicrobiennes d'une surface. Ce substrat présente une surface donneuse d'électrons qui se caractérise par des particules métalliques déposées sur la surface； ces particules métalliques comprennent le palladium et au moins un métal sélectionné dans le groupe comprenant l'or, le ruthénium, le rhodium, l'osmium, l'iridium et le platine, la quantité de ces particules métalliques étant comprise entre environ 0,001 et environ 8μg/cm2. Le substrat peut être utilisé pour différentes applications, telles que pour modifier l'hydrophobicité, l'adsorption de protéines, l'adhérence des bactéries, ainsi que pour empêcher la transmission bactérienne et plus particulièrement, empêcher les infections nosocomiales.
