The invention relates to a cosmetic process for caring for the skin, more particularly facial skin, in particular wrinkled skin, comprising the topical application to the skin of a cosmetic composition comprising a grafted polysaccharide polymer (I) and exposure of the treated skin to light radiation, polymer (I) being of formula: PS-(CO-NH-L-X)a(COOH)b in which PS denotes the basic backbone of the polysaccharide bearing the carboxylic acid groups L is a divalent hydrocarbon-based group containing from 1 to 20 carbon atoms X denotes a photoactive group of azide or diazirine type a denotes the content of COOH groups substituted with the group -NH-L-X b denotes the content of unsubstituted free COOH groups a being between 0.01 and 0.8 b being between 0.2 and 0.99 a + b = 1 The invention also relates to the polymers (I) bearing a photoactive group X of diazirine type and to a composition comprising such a polymer in a physiologically acceptable medium.Linvention concerne un procédé cosmétique pour le soin de la peau, plus particulièrement la peau du visage et en particulier une peau ridée, ledit procédé comprenant lapplication topique sur la peau dune composition cosmétique comportant un polymère polysaccharide greffé (I) et lexposition de la peau traitée à un rayonnement lumineux, le polymère (I) étant de la formule : PS-(CO-NH-L-X)a(COOH)b dans laquelle PS désigne le squelette de base du polysaccharide portant les groupes acide carboxylique L est un groupe à base dhydrocarbure divalent contenant de 1 à 20 atomes de carbone X désigne un groupe photosensible azide ou de type diazirine a désigne la teneur en groupes COOH substitués par le groupe -NH-L-X b désigne la teneur en groupes COOH libres non substitués a est compris entre 0,01 et 0,8 b est compris entre 0,2 et 0,99 a + b = 1. Linvention concerne également les polymères (I) portant un groupe photosensible X de type diazirine et une composition comportant un tel polymère dans un milieu physiologiquement acc
