您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

UTILISATION DE CHITOSANE POUR AUGMENTER LA FORMATION D'APPRESSORIA, LE PARASITISME DE NÉMATODES PHYTOPATHOGÈNES ET LA COLONISATION RHIZOSPHÈRIQUE PAR POCHONIA CHLAMYDOSPORIA
专利权人:
UNIVERSIDAD DE ALICANTE
发明人:
LÓPEZ LLORCA, LUÍS VICENTE,LÓPEZ LLORCA, Luís Vicente,ESCUDERO BENITO, NURIA,ESCUDERO BENITO, Nuria,LÓPEZ MOYA, FEDERICO,LÓPEZ MOYA, Federico
申请号:
ESES2015/070515
公开号:
WO2016/046428A1
申请日:
2015.07.02
申请国别(地区):
ES
年份:
2016
代理人:
摘要:
The invention relates to the use of chitosan for increasing the formation of appressoria in Pochonia chlamydosporia and/or increasing the pathogenicity of Pochonia chlamydosporia on eggs of nematodes. The invention also relates to the use of chitosan for increasing the colonisation of plant roots by Pochonia chlamydosporia without affecting the development thereof.La presente invención se refiere al uso de quitosano para aumentar la formación de apresorios en Pochonia chlamydosporiay/o aumentar la patogenicidad de Pochonia chlamydosporiasobre huevos de nematodos. La presente invención también se refiere al uso de quitosano para aumentar la colonización de raíces de plantas por Pochonia chlamydosporiasin afectar al desarrollo de las mismas.La présente invention concerne l'utilisation de chitosane pour augmenter la formation d'appressoria chez Pochonia chlamydosporia et/ou augmenter la pathogénicité de Pochonia chlamydosporia sur des oeufs de nématodes. La présente invention concerne également l'utilisation de chitosane pour augmenter la colonisation des racines de plantes par Pochonia chlamydosporia sans affecter le développement de celles-ci.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充